PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )，等離子體增強(qiáng)化學(xué)的氣相沉積法。

也是化學(xué)氣相沉積的一種鍍膜設(shè)備。PECVD廣泛應(yīng)用也半導(dǎo)體、LED、光伏等行業(yè)，用于在晶體表面形成薄膜的設(shè)備。

應(yīng)用在光伏行業(yè)的PECVD分為2鐘，一種是管式太陽(yáng)能PECVD；一種是板式太陽(yáng)能PECVD。

PECVD設(shè)備主要有5大部分組成：晶片裝載區(qū)、爐體、特氣柜、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)。

在爐體內(nèi)有石英管，石英管是鍍膜的作業(yè)區(qū)域，耐高溫和防反應(yīng)。

每個(gè)石英管配置一組泵，泵組是有上泵和下泵組成，真空系統(tǒng)根據(jù)閥門(mén)的開(kāi)度來(lái)調(diào)節(jié)管內(nèi)的真空度。一般PECVD工作時(shí)，管內(nèi)的真空度要維持在10Pa~100Pa左右。

臺(tái)灣漢鐘干式螺桿真空泵組為國(guó)內(nèi)外PECVD設(shè)備廠商配套真空泵，產(chǎn)品在光伏行業(yè)內(nèi)大量應(yīng)用。