化學(xué)氣相沉積CVD真空泵 

化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD)

CVD是氣態(tài)物質(zhì)在氣相或氣固界面上發(fā)生反應(yīng)生成固態(tài)粉末或薄膜材料過程?；瘜W(xué)氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運(yùn)->沉積。它的主要特點(diǎn)在于不管原來需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運(yùn)時(shí)都要轉(zhuǎn)化成氣相形態(tài)進(jìn)行遷移，最終到達(dá)工件表面沉積凝聚成固相薄膜。

在做鍍膜過程中，真空腔室會產(chǎn)生一定的粉塵和腐蝕性氣體，這就需要真空泵能抗一定的粉塵和腐蝕性。

漢鐘IPH系列半導(dǎo)體真空泵，在國內(nèi)12寸CVD設(shè)備上運(yùn)行穩(wěn)定，等到設(shè)備商的高度認(rèn)可，有望填補(bǔ)中國半導(dǎo)體真空泵空白。