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真空技術(shù)

TFT_LCD Array(前段制程)工序簡介

2019-02-25 點(diǎn)擊數(shù):696

TFT_LCD Array前段制程)工序簡介

TFT_LCD是以TFT單元為控制組件,以液晶(LC)為介質(zhì)的光點(diǎn)顯示器件。

?TFT-LCD研究起源于歐美,產(chǎn)業(yè)化由日本完成。因此最早的理論研究和基礎(chǔ)專利基本集中在歐美,而產(chǎn)品和工藝方面的技術(shù)則主要掌握早日韓手中。臺灣大多數(shù)廠商的技術(shù)來源于其他廠商的授權(quán),技術(shù)專利掌握很少,大多為液晶面板代工制造。

制作TFT的材料多數(shù)為非晶硅(a-Si,因?yàn)榉蔷Ч柽m合于大面積、大量生產(chǎn)。其他材料還有:低溫多晶硅(p-Si、微晶硅(μ-Si。

TFT_LCD主要構(gòu)件的作用:

TFT基板,根據(jù)掃描信號選擇像素和根據(jù)顯示信號控制液晶偏轉(zhuǎn)量;

CF基板,將經(jīng)TFT控制而又穿過液晶體的光線轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的彩色;

液晶體,相當(dāng)于可以通過TFT控制其偏轉(zhuǎn)量的光閥,控制各子像素的光通過量。


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